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2006 年 8 月 13 日

紫外光天文學史 (13)： 紫外光與平版印刷
提供者 : 陳輝樺 (AEEA 小組 , NMNS )

說明 : 平版印刷是以平面的印版印刷的一種方法，也是製造半導體、積體電路 (IC)、 微機電系統 (MEMS，Microelectromechanical Systems) 等設備的方法。 它們操作的尺度都在 微米 (1 mm = 10-6 m) 範圍內， 甚至更小到 奈米 (1 nm = 10-9 m) 範圍。 在如此細緻的三維平面印刷系統裡，表面的靜電、潮濕等現象遠比日常的慣性與熱容量等物理來得重要。 換言之，類似生產半導體的壓延、電鍍、濕蝕刻、乾蝕刻、電火花加工等矽表面微細處理操作系統， 在微米與 豪米 尺度範圍，日常力學經驗往往不適用。

         為了達到上述的高精密度表面微細處理操作，現代的平版印刷使用鋁版，在粗糙化處理後塗上平滑的一層「感光膠」， 再將所需印製的圖案置於印版上曝光、在感光膠上形成圖像，然後感光膠經化學藥水處理未感光部分••• 等仿如照相底片的沖洗過程，方有細緻精美的圖案呈現。

         製造半導體、積體電路 (IC)、微機電系統 (MEMS) 的平版印刷稱之為「光刻 (Photolithography)」。 由於它的操作尺度是在 微米 (1 mm = 10-6 m) 與 奈米 (1 nm = 10-9 m) 範圍間， 所用的基質一般是矽(silion) 晶體的蕊片，蕊片上覆上一層數奈米厚的金屬，然後再覆上一層「光阻劑」的感光膠。 這層光阻劑通常在 紫外光 (Ultraviolet) 的光刻後會變硬。 光阻劑有許多不同的類型，有些對所有紫外光 光譜 感光、 有些只對某特定的光譜感光，也有些則會對 X 射線 (X-ray) 或電子束感光。 通常，為了避免塵埃與靜電的干擾，整個光刻的過程會像似上照片片所示，在近無塵的環境中操作進行。
　

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主編 : 陳輝樺 或 陳輝樺                 
                            諮詢服務 : 陳輝樺 或 (NMNS 國立自然科學博物館)
                                    王夕堯 (NTPU 國立台北大學)
                                                        蘇明俊 (樹德科技大學  休閒事業管理系)

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